עיקרון PVD

עיקרון PVD

PVD (תצהיר אדים פיזי) מתייחס לתצהיר אדים פיזי, המחולק לציפוי אידוי ואקום, ציפוי מקרטעת ואקום וציפוי יונים ואקום. אנחנו בדרך כלל אומרים ציפוי PVD, אשר מתייחס ציפוי יונים ואקום; בדרך כלל אמר ציפוי NCVM, מתייחס ציפוי אידוי ואקום וציפוי מקרטעת ואקום.
העיקרון הבסיסי של אידוי ואקום: בתנאי ואקום, המתכת, סגסוגת המתכת ואידוי אחר, ולאחר מכן הופקד על פני השטח של המטריצה, שיטת אידוי נפוץ חימום התנגדות, חומר ציפוי הפגזת קרן אלקטרונים, אידוי לתוך שלב הגז, ולאחר מכן הופקד על פני השטח של המטריצה, מבחינה היסטורית, אידוי ואקום היא שיטת PVD המשמשת בטכנולוגיה המוקדמת ביותר.
העיקרון הבסיסי של ציפוי מקרטעת: תחת מצב הוואקום של גז ארגון (Ar), להפוך את פריקת זוהר ארגון, ואז ארגון (Ar) אטומים ליינם לתוך יון ארגון (Ar +), יון ארגון תחת הפעולה של כוח שדה חשמלי, להאיץ את ההפגזה של יעד קתודה שנעשו על ידי חומר ציפוי, היעד יהיה מרוטט ומופקד על פני השטח של לחומר. יונים תקרית בסרט ציפוי מקרטעת מתקבלים בדרך כלל על ידי פריקה זוהר בטווח של L0-2Pa ~ 10Pa, כך החלקיקים המקרטעים קל להתנגש עם מולקולות הגז בתא הוואקום בתהליך של טיסה למטריצה, כך כיוון התנועה הוא אקראי ואת הסרט המופקד קל להיות אחיד.
העיקרון הבסיסי של ציפוי יונים: בתנאי ואקום, השימוש בטכנולוגיית יינון פלזמה מסוימת, כך שחלק מיינון האטום בצילה ליונים, בו זמנית כדי לייצר אטומים ניטרליים רבים באנרגיה גבוהה, במצע ה ציפוי עם הטיה שלילית. בדרך זו, יונים מופקדים על משטח המצע כדי ליצור סרטים תחת הפעולה של הטיה שלילית עמוקה.

תהליך ציפוי יונים: חלקיקי חומר אידוי כמו יונים חיוביים טעונים באנרגיה גבוהה בקתודה בלחץ גבוה (לחומר) מתחת למשיכה, מוזרק לתוך משטח לחומר במהירות גבוהה.

חברת IKS PVD, מכונת ציפוי דקורטיבית, מכונת ציפוי כלים, מכונת ציפוי DLC, מכונת ציפוי אופטית, קו ציפוי ואקום PVD, פרויקט המפנה זמין. צרו קשר כעת, דואר אלקטרוני:iks.pvd@foxmail.com