שקיעת אדים כימית (CVD)
Oct 24, 2022| שקיעת אדים כימית (CVD)
שקיעת אדים כימית (CVD) היא שיטה ליצירת סרטי מתכת או תרכובות על פני המצע על ידי אינטראקציה של גזים מעורבים עם פני המצע בטמפרטורה מסוימת.
המאפיינים של שקיעת אדים כימיים הם כדלקמן: ישנם סוגים רבים של משקעים, שניתן לחלקם למתכות משקעים, אלמנטים מוליכים למחצה, קרבידים, ניטרידים, בורידים וכו' ויכולים לשלוט בהרכב ובצורת הגביש של הסרט בגודל גדול. טווח; יכול לצבוע באופן שווה את הצורה הגיאומטרית של חלקים מורכבים; מהירות התצהיר מהירה, שכבת הסרט צפופה והמטריצה מחוברת היטב; קל להשיג ייצור המוני.
בגלל עמידות הבלאי הטובה שלו, עמידות בפני קורוזיה, עמידות בחום ותכונות מיוחדות חשמליות, אופטיות ואחרות, נעשה שימוש נרחב בסרט שקיעת אדים כימי בייצור מכני, תעופה וחלל, תחבורה, תעשיית הפחם הכימית ותחומי תעשייה אחרים.
חברת IKS PVD, מכונת ציפוי דקורטיבית, מכונת ציפוי כלים, מכונת ציפוי DLC, מכונת ציפוי אופטי, קו ציפוי ואקום PVD, פרויקט Turn-Key זמין. צור איתנו קשר עכשיו, דואר אלקטרוני:iks.pvd@foxmail.com