תהליך ציפוי צלחת כיסוי מובייל לקרמיקה

מבוא לתהליך ציפוי של ציפוי לוחית MOBILEPHONE קרמיקה

עם התפתחות מהירה של טכנולוגיית 5G, קרמיקה תהפוך לחומר המודאג ביותר בעידן 5G מתוקף הגנת האות ללא תכונות מכניות טובות, והסיכויים בשוק לקרמיקה עתידית יהיו רחבים מאוד. טיפול פני השטח של מוצרי קרמיקה דורש תהליך ציפוי PVD. נכון לעכשיו, תהליך הציפוי של מוצרי קרמיקה הוא בעיקר אידוי והתזות. לוגו או סרט צבע וטיפול AF מצופים על מוצרי קרמיקה. בואו נסתכל על שני תהליכי הציפוי הללו.

תצלום של לוגו PVD על הכריכה האחורית הקרמית של הטלפון הנייד צולם בתא הטבעת השלישי

ציפוי אטון אדים ואקום

סרט אידוי ואקום הוא סוג של סרט הנוצר על פני המצע בתנאי ואקום . החום מאדה את החומר המתאדה ומפקד אותו על משטח המצע ליצירת סרט מוצק.

איור תרשים סכמטי על אידוי אידוי ואקום

תהליך בסיסי של ציפוי אידוי ואקום:

הכנה לפני ציפוי → ואקום → הפגזת יונים → אפייה → טרום התכה → אידוי → נטילת חלקים → טיפול במשטח קרום → מוצרים מוגמרים

איור תרשים זרימת אידוי ואידוי ואקום

מאפייני ציפוי אידוי ואקום:

יתרונות: הציוד פשוט וקל לתפעול, הסרט עשוי מטוהר גבוה, באיכות טובה, עובי יכול להיות שליטה מדויקת יותר, קצב גיבוש הסרט הוא מהיר, יעילות גבוהה, מנגנון גידול הסרט הוא פשוט יחסית.

חסרונות: הסרט שנוצר על הידבקות המצע הוא קטן, יכולת הדירות בתהליך אינה טובה מספיק, לא קל להשיג את המבנה הגבישי של הסרט .

ציפוי מגהץ מגנטרון

עקרון ציפוי מגמטר מגהץ:

בתהליך האצה למצעים תחת פעולת שדה חשמלי, אלקטרונים מתנגשים באטומי ארגון, מייננים מספר גדול של יוני ארגון ואלקטרונים ואז עפים אל המצע. תחת פעולת שדה חשמלי, יוני ארגון מאיצים להפגיז את המטרה, מפזרים מספר גדול של אטומי מטרה, ואטומי המטרה הנייטרליים (או המולקולות) מונחים על המצע ליצירת סרט.

תאנה. עיקרון התזת של מגנטרון

התזות העיקרית של מגנטרון:

(1) המצע מנקה בעיקר באמצעות קיטור של אלכוהול איזופרופיל, ואז ספוג באתנול ואצטון, ואחריו ייבוש מהיר להסרת כתמי שמן על פני השטח;

(2) ואקום, יש לשלוט בוואקום מעל 2 × 104 פאפה בכדי להבטיח את טוהר הסרט;

(3) חימום. על מנת להסיר לחות על פני המצע ולשפר את ההידבקות בין הסרט למצע, צריך לחמם את המצע. הטמפרטורה נבחרת בדרך כלל בין 150 ℃ ל 200 ℃ .

(4) בדרך כלל נבחר לחץ חלקי ארגון בטווח של 0.01 ~ 1Pa כדי לעמוד בתנאי הלחץ של פריקת זוהר;

(5) מקרטע מראש. תרסיס מקדים הוא הסרת סרט תחמוצת השטח על פני חומר המטרה על ידי הפצצת יונים, כדי לא להשפיע על איכות הסרט;

(6) התזות: תחת פעולת שדה מגנטי אורתוגונאלי ושדה חשמלי, היונים החיוביים שנוצרו לאחר היינון של ארגון פגעו במטרה במהירות גבוהה, כך שחלקיקי המטרה הנוצרים על ידי התזמון מגיעים למשטח המצע ומפקידים בסרט ;

(7) במהלך חישול מקדמי ההתרחבות התרמית של הסרט והמצע שונים זה מזה, וכוח הכריכה הוא קטן. בעת חישול, ההתפשטות ההדדית של האטומים בין הסרט למצע יכולה לשפר את ההדבקה ביעילות.

תרשים זרימת תהליך התזת של מגנטרון

על פי מקורות התזות שונים, ניתן לחלק את התזות המגנטרון ל dc ו- rf. ההבדל העיקרי בין השניים טמון בדרכים השונות של פריקת גז. רפרוף מגנטרון Rf משתמש בפריקה של rf, בעוד שמוצרי קרמיקה משתמשים בפריטר מגנטרון rf.

תכונות ציפוי מגנוטת של מגנטרון:

יתרונות: ניתן לשלוט על טוהר גבוה, צפוף, עובי אחיד, יכולת הדירות חוזרת טובה יותר, הידבקות חזקה.

חסרונות: ציוד מורכב, שיעור ניצול יעד נמוך.

IKS PVD ， אידוי ומכונת ציפוי PVD מגנטטרון מתיזת, לתעשיית הטלפונים הניידים. צור איתנו קשר עכשיו, iks.pvd @ foxmail.com