שני סוגים של ציפויים מנוקבים

שני סוגים של ציפויים מנוקבים

אחד נקרא sputtering beam beam, המתייחס להפצצת פני היעד עם קרן יון במצב הוואקום, כך שהחלקיקים המרוטטים יכולים ליצור סרט על פני המטריצה. תהליך זה הוא יקר יחסית ומשמש בעיקר להכנת סרטים מיוחדים. השנייה נקראת sputtering cathode, העושה שימוש בעיקר בתופעה של פריקת גזים בלחץ נמוך בכדי לגרום ליונים בהפצצת הפלזמה של משטח היעד ולתצהיר חלקיקי התזות במטריקס. זה מאמץ את המבנה של אלקטרודה צלחת מקבילה, המטרה בשטח גדול העשוי מחומר ממברנה היא הקתודה, המצע התומך במטריקס הוא האנודה והוא מותקן בכלי הוואקום של צנצנת הפעמון. כדי להפחית את הזיהום, ראשית נשאבים את הלחץ בתוך קנקן הפעמון לפחות מ- L0-3 ~ 10-4pA, ואז מתמלאים ב- Ar בכדי לשמור על הלחץ ב- L ~ 10Pa. ציפוי התזות מבוצע על ידי הוספת אלפי וולט בין הקטבים.
בהשוואה לתצהיר אידוי, בתצהיר התזות אין שינוי שלב בחומר המטרה (חומר הסרט), הרכב המתחם יציב, והסגסוגת לא קלה לפרוק, כך שחומר הסרט המתאים להכנה הוא רחב מאוד. מאז האנרגיה של חלקיקים שהופקדו על המצע על ידי התזות גבוהה פי 50 מזו של האידוי, יש להם השפעה על ניקוי וחימום על המצע, כך שלסרט יש הידבקות חזקה. בפרט, ציפוי התזות קל לשלוט בהרכב הסרט. באמצעות הכישוף ישיר או התזות תגובית, ניתן להכין באופן אחיד סרטי סגסוגת, סרטים מורכבים, סרטי רב שכבתי וסרטים מורכבים. קל לממש ציפוי התזות הפעלה רציפה, אוטומטית וייצור בקנה מידה. עם זאת, בגלל השימוש במתח גבוה ובגז בזמן התזות, המכשיר מורכב יחסית, והסרט מושפע בקלות מהאווירה המקרטעת, ושיעור התמצית של הסרט נמוך גם הוא. בנוסף, ציפוי התזת דורש הכנה של רכיבים שונים ביעד, יעד העמסה והפריקה אינו נוח, קצב ניצול היעד אינו גבוה.

חברת IKS PVD, מכונת ציפוי דקורטיבית, מכונת ציפוי כלים, ציפוי אופטי mahcine, קו קו PVD ואקום. צור איתנו קשר עכשיו, דואר אלקטרוני: iks.pvd@foxmail.com