הבעיה של magnetron המקרטעת מטרה פרומגנטית
Mar 28, 2019| הבעיה של magnetron המקרטעת מטרה פרומגנטית
ההתפתחות המהירה של טכנולוגיית המידע האלקטרונית יצרה ביקוש עצום לסרט מגנטי ולרכיבים מגנטיים. הכנת הסרט המגנטי רכיבים מגנטיים היא בלתי ניתנת להפרדה של מתכות וסגסוגות ferromagnetic כגון Fe, Co ו ניקל. מגנטון sputtering היא שיטה בשימוש נרחב לייצור רכיבים מגנטיים על ידי הפקדת סרטים מגנטיים באיכות גבוהה בגלל טוהר גבוהה שלה מבנה שליטה מדויקת. עם זאת, מגנטרון sputtering בתצהיר של סרטים מגנטיים יש כמה בעיות כגון קושי sputtering נורמלי של חומרי מטרה פרומגנטיים, אשר מעכב את הייצור ואת היישום של ביצועים גבוהים סרטים מגנטיים והתקנים.
הבעיה של magnetron המקרטעת מטרה פרומגנטית
עבור Fe, Co, Ni, Fe2O3, permalloy וחומרים פרומגנטיים אחרים, כדי להשיג טמפרטורה נמוכה, במהירות גבוהה בתצהיר sputtering, השימוש מגנטרון רגילות sputtering יהיה מוגבל מאוד. הסיבה לכך היא כמה חומרים magnetoresistance היעד הנ"ל הוא נמוך מאוד, רוב השדה המגנטי מוצג באיור 1 כמו כמעט לחלוטין דרך בתוך החומר פרומגנטי, להפוך את החלק העליון של השטח חומר היעד השדה המגנטי השיורי הוא קטן מדי, לא מסוגל ליצור את שטח האלקטרון ביעילות, במקביל ליעד לא יכול להיווצר על פני השטח של האלקטרוניקה המשנית תנועה cycloid עגול של השדה המגנטי חזק, מגנטרון המקרטעת לא להתבצע. בשלב זה, מגנטרון sputtering הופך דיודה יעיל מאוד המקרטעת, אשר מקטין באופן משמעותי את שיעור בתצהיר של הסרט מחמם את המצע.
תאנה. 1 תרשים סכמטי של קו שדה מגנטי העובר דרך מטרה פרומגנטית (C הוא ציר מרכזי של ערוץ קו מגנטי)
בנוסף אפקט המגן המגנטי, את התופעה של פילמור מגנטי פלזמה הופך רציני יותר כאשר חומרים פרומגנטיים sputtered מושווים עם חומרי מטרה רגילים. כפי שמוצג ב FIG. 2, נקודות 1 ו -3 ב FIG. 2 (א) הם נקודות משני צידי ציר C בערוץ השדה המגנטי. במהלך התפרקות, בשל דו-קיום של שדה חשמלי ושדה מגנטי, האלקטרונים בנקודות 1 ו -3 מושפעים מכוח coulomb וכוח lorentz ועוברים לכיוון ציר C בערוץ השדה המגנטי, בעוד שהאלקטרונים בנקודה 2 אינם מושפע מכוח רוחבי.
לכן, פלזמה על סליל הוא ביותר, את sputtering לעבר המיקום המתאים של היעד הוא אינטנסיבי ביותר, ואת קצב מגרגר הוא הגדול ביותר. מצב זה קיים בכל היעד המקרטעת. עם זאת, כאשר המטרה המקרטעת פרומגנטית, התופעה של פילמור מגנטי פלזמה הוא רציני יותר.
איור 2 (ד) ניתן לראות, בשל התופעה המגנטית פלזמה, הופיע לראשונה בקווים של ערוץ כוח מגנטי באמצע קו ערוץ המקרטעת, המקורי דרך קווי כוח מגנטי מתוך החומר הפרמגנטי ידלוף מן ערוץ, עמוק יותר את sputtering של הערוץ, קווי שדה מגנטי דליפה, את הקווים של כוח מגנטי של עוצמת השדה המגנטי, כך גדל ציר כך יותר של אלקטרונית בתחום השדה המגנטי קווי מגנטי פולי, צירית המפרקים פלזמה יותר בשדות השדה המגנטי, ומכאן ככל שערוץ השיעור המקרטע, מוביל בסופו של דבר לערוץ של חומר המטרה מתיז ללבוש מהר יותר. כיוון שהמעבר הפנימי של המטרה הפרומגנטית הוא הרבה יותר מזה של המטרה הרגילה, קווי השדה המגנטי שלה זורמים יותר, עוצמת השדה המגנטי בציר הקו המגנטי גדולה יותר, וקצב החריטה המפריע בערוץ מהיר יותר .
תאנה. 2 פלזמה תופעה פילמור מגנטי במהלך sputtering של המטרה fromagnetic F-one של שורות שדה מגנטי רבים על פני השטח של היעד
) א (תעלות קו שדה מגנטי על פני המטרה; (ב) יעד שדה מגנטי בתחילת sputtering; (ג) יעד שדה מגנטי לאחר sputtering במשך זמן מה; (ד) שדות מגנטיים היעד להיות חרוט דרך
IKS PVD, מגנטית sputtering מכונת ציפוי, פנה אלינו עכשיו, iks.pvd @ foxmail.com
