ההשוואה בין המאפיינים של עיבוד קרני אלקטרונים וטכנולוגיית עיבוד קרני יונים

המאפיינים   השוואה   של עיבוד קרני אלקטרונים וטכנולוגיית עיבוד קרני יון

תכונות של עיבוד קרני אלקטרונים:

(1) מכיוון שקרן האלקטרונים יכולה להיות ממוקדת עדינה ביותר, אפילו יכולה להיות ממוקדת ל 0.1 מ ', כך ששטח העיבוד והחריץ יכולים להיות קטנים מאוד, היא שיטת עיבוד מדויקת ומיקרו.

(2) צפיפות האנרגיה של קרן האלקטרונים גבוהה מאוד, כך שהטמפרטורה של חלק ההקרנה עולה על טמפרטורת ההתכה והגיזוז של החומר. חומר העבודה נקי מכוח מכני ואינו מייצר לחץ ועיוות מקרוסקופיים. חומרי עיבוד ניתן לעבד מגוון רחב של חומרים שבירים, קשיחים, מוליכים, שאינם מוליכים ומוליכים למחצה.

(3) צפיפות האנרגיה הגבוהה של קרן האלקטרונים מביאה ליעילות עיבוד גבוהה. לדוגמה, ניתן לקדוח 50 חורים בקוטר 0.4 מ"מ בכל שנייה בצלחת פלדה בעובי 2.5 מ"מ.

(4) ניתן לשלוט ישירות על ידי השדה המגנטי או האלקטרון על עוצמת המיקום, המיקוד והמיקוד של קרן האלקטרונים, כך שכל התהליך נוח לאוטומציה ראשונה. במיוחד בחשיפה לקרן אלקטרונים, ממיקום העיבוד לסריקה של גרפיקה מעובדת. ניתן אוטומציה. במהלך קידוח וחיתוך של קרני אלקטרונים, ניתן לעבד חורים בצורת מיוחדים על ידי בקרה חשמלית בכדי להשיג חיתוך מעוגל.

(5) מכיוון שעיבוד קרני האלקטרונים מתבצע בוואקום, כך שפחות זיהום, משטח העיבוד לא יחמצן, מתאים במיוחד לעיבוד חומרים מתכות וסגסוגת מחומצן בקלות, חומרים מוליכים למחצה עם דרישות טוהר גבוהה.

(6) עיבוד אלומת אלקטרונים זקוק לסט שלם של ציוד מיוחד ומערכת ואקום, המחיר יקר יותר, ליישום הייצור יש מגבלות מסוימות.

מכונת ציפוי אופטית של קרן אלקטרונים IKS PVD ， IKS-OPT2700, פרטים נוספים, ברוך הבא צור קשר iks.pvd@foxmail.com