הקדמה קצרה של טכנולוגיה HIPIMS
Jul 06, 2018| מגנטרון sputtering הטכנולוגיה נמצאת בשימוש נרחב בתחום של ציפוי שדה. זה נפוץ הן עבור יישומים ציפוי דקורטיבי יישומים ציפוי הכלי. אבל יש עדיין מגבלות רבות של מגנטרון sputtering הטכנולוגיה. לדוגמה, צפיפות הספק של מטרות מגנטרון המקרטעת מושפעת מעומס תרמי היעד. תחת זרם גדול המקרטעת, יונים חיוביים מופרזים להפציץ את המטרה, מה שעלול לגרום את המטרה המקרטעת להתחמם ולשרוף, וחוץ מזה, האנרגיה של sputtering מוגבל, ושיעור יינון מתכת אינו גבוה.
בשנים האחרונות, פיתחה טכנולוגיית מגנטרון (HiPIMS) בעלת עוצמה גבוהה, בבית ובחו"ל, אשר מחלישה מאוד את ההגבלות. כוח השיא של HiPIMS הוא בערך פי 100 מזה של מגנטרון רגילות sputtering, ואת החומר המקרטעת יש שיעור יינון גבוהה מאוד, גם, זה קרן מיונן מאוד אינו מכיל חלקיקים גדולים, ולכן HiPIMS יכול בקלות להשיג שכבת סרט באיכות גבוהה .
מאז זמן הפעולה הדופק הוא בתוך כמה מאות מיקרו שניות, הכוח הממוצע של HiPIMS שווה לזה של מגנטרון רגילות המקרטעת, כך הדרישה לקירור של היעד magnetron אינו גדל. למרות כוח מיידי של כוח גבוהה מגולף פעימה מגנטרון הוא גבוה מאוד, הכוח הממוצע שלה הוא לא גבוה מדי, ולכן זה יכול להיות מקודם.
